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    無錫松煜科技有限公司

    我們是專業從事光伏及半導體工藝裝備研發、生產、銷售為一體的智能裝備制造企業。
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    產品中心

    主要產品有: ALD,PECVD,LPCVD,常壓、低壓擴散爐,氧化爐,退火爐,石墨烯、碳納米管合成爐,立式真空爐,氫氣爐,真空釬焊、熱處理爐等真空熱工設備。

    ALD原子層沉積設備

    太陽能ALD原子層沉積是通過將氣相前軀體TMA和H20(或TMA和O3)脈沖交替地通入反應腔室內并在沉積基體上化學吸附反應生成沉積膜AL2O3的一種設備,主要應用到光伏PERC、TOPCON等新型工藝上,用于提高太陽能電池片的轉換效率。

    微控擴散爐

    擴散爐應用于分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池及大規模集成電路制造等領域對最片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝,可用于2~8英寸工藝尺寸。

    PECVD等離子化學氣相沉積系統

    主要用于在晶體硅太陽能電池制造中在硅片上沉積AlxOy, SiO2/SiOxNy , SixNy薄膜。

    LPCVD低壓化學氣相沉積設備

    松煜L PCVD低壓化學氣相沉積設備,用加熱的方式在低壓條件下使氣態化合物在基片表面反應并積淀形成固定固體薄膜(SiOz, POLY-Si,P+POLY-Si),目前主要使用方向為: TOPCon與POLO(POLY-Si)電池工藝路線。

    低壓管式高溫硼磷擴散系統/退火爐/氧化爐

    松煜硼、磷擴散爐是最新型低壓擴散爐,低壓擴散是通過真空泵的作用,使反應腔體處于真空狀態,然后通入工藝氣體,擴散過程使腔室維持在穩定恒定的真空狀態,從而保證腔室內硼或磷原子濃度不變。由于真空條件下氣體分子自由程增加,氣體分子在硅片表面的附著能力也有很大改善且避免了出現大量氣體湍流,此時硼或磷原子可以均勻地分布在硅片表面,且在硅片表面擴散一層均勻的雜質原子,從而保證硅片擴散的均勻性。

    ALD原子層沉積設備

    原子層淀積系統可生長品質優異的薄膜,設備先進,穩定可靠。應用實例:高K柵氧化層,存儲容性電介質,銅互連中高深寬比擴散阻擋層,OLED無針孔鈍化層,MEMS的高均勻鍍膜,納米多孔結構鍍膜,特種光纖摻雜,太陽能電池,平板顯示器,光學薄膜,其它各類特殊結構納米薄膜。

    智能裝備制造商

    松煜科技是一家專業從事光伏及半導體工藝裝備研發、生產、銷售為一體的智能裝備制造企業。目前公司主要產品有: ALD,PECVD,LPCVD,常壓、低壓擴散爐,氧化爐,退火爐,石墨烯、碳納米管合成爐,立式真空爐,氫氣爐,真空釬焊、熱處理爐等真空熱工設備??蓮V泛用于半導體集成電路、焊接封裝、IGBT、MEMS、光伏電池制造及其他新能源、新材料、真空電子和磁性材料等領域,各類技術指標達到國內裝備制造的先進水平。

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    先進、成熟的工藝支持,工藝控制軟件終身免費服務、升級;非換代設備的成本價設備技術升級;新工藝、新產品的技術和設備保障;基于豐富的建線、工藝和設備經驗,為客戶免費提供前和售后的各類技術咨詢支持;

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    一年質保期;24小時服務熱線,24小時服務響應;終身售后服務及備品備件供應;每年不少于兩次的設備巡檢養護及狀態調整。

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